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分析機器のご紹介

◆蛍光X線分析装置（XRF-WDX、EDX）
?
ZSX Primus? RIGAKU製??????
最大試料寸法
Ø51mm×30（H）ｍｍ?
照射径：Ø0.5、1、10、20、30mm?
分析元素範囲：B?U		 ? XGT-1000WR HORIBA製?????
試料室に入る大きさ：
460(W)×360（D）×150（H）ｍｍ?
管電圧：15、50kV
管電流：2-1,000μA
照射径：直径1.2mm
分析元素範囲：Na?U
※液体のEDX分析も可能
? ? ?
◆走査型電子顕微鏡（SEM-EDX）
?
JSM-6460LA JEOL製
分解能(高真空ﾓｰﾄﾞ)：3.0nm
分解能(低真空ﾓｰﾄﾞ)：4.0nm
倍率：×5?×300,000
加速電圧：0.3kV?30kV
元素分析：B?U		 ? ?
? ? ?
◆X線回折装置（XRD）
? ?
Mini Flex RIGAKU製
【X線発生装置部】
X線管電圧出力：30ｋV、管電流出力：15ｍA??
Kβ除去ﾌｨﾙﾀ：Ni（Cu管球用）
【ｺﾞﾆｵﾒｰﾀ部】???
ｺﾞﾆｵﾒｰﾀ半径　：150?　ｽﾘｯﾄ ： DS　θ軸連動可変
2θ測定範囲 ： +2°?+150°　照射幅：約11.5mm		 ?
? ? ?
◆ガスクロマトグラフ質量分析計（GC-MS）
? ? ?
ｶﾞｽｸﾛﾏﾄｸﾞﾗﾌ/GC2010 島津製作所製
質量分析計/MS-QP2010 島津製作所製
【ｶﾞｽｸﾛﾏﾄｸﾞﾗﾌ】
ｵｰﾌﾞﾝ温度:室温＋4℃?350℃
【質量選択検出部】
ｲｵﾝ化法:EI
質量範囲：1.5?1,090ｕ		 ? ｶﾞｽｸﾛﾏﾄｸﾞﾗﾌ/HP6890ｱｼﾞﾚﾝﾄﾃｸﾉﾛｼﾞｰ製
質量分析計/5973MSD ｱｼﾞﾚﾝﾄﾃｸﾉﾛｼﾞｰ製
【ｶﾞｽｸﾛﾏﾄｸﾞﾗﾌ】
ｵｰﾌﾞﾝ温度:室温＋4℃?450℃
【質量選択検出部】
ｲｵﾝ化法:EI
質量範囲:1.6?800u
? ? ?
◆ガスクロマトグラフ分析計（GC-TCD、FID、FPD、ECD）
? ? ?
GC-2014 島津製作所製
【GC?TCD（熱伝導度検出器）】
ｵｰﾌﾞﾝ温度:室温+10?400℃
感度:20,000mV･mL/mg (ﾃﾞｶﾝ)
ﾀﾞｲﾅﾐｯｸﾚﾝｼﾞ:1×105		 ? GC-2010 島津製作所製
【GC?FID(水素炎ｲｵﾝ化検出器）】
ｵｰﾌﾞﾝ温度:室温+4?450℃?
最小検出量:3pgC/s　（ﾄﾞﾃﾞｶﾝ）
ﾀﾞｲﾅﾐｯｸﾚﾝｼﾞ:1×107
? ? ?
GC-14B 島津製作所製
【GC?FPD（炎光光度検出器）】
ｵｰﾌﾞﾝ温度：室温+10?350℃		 ? GC-14B 島津製作所製
【GC?ECD（電子捕獲検出器）】
ｵｰﾌﾞﾝ温度：室温+10?350℃
線源：　Ni 370MBq (10mCi)
検出限度：0.2pg (γ-BHC)
? ? ?

◆ICP発光分光分析計（ICP-AES）
?
ICPS-7500 島津製作所製??????
ｼｰｹﾝｼｬﾙﾀｲﾌﾟ
波長範囲：160?850nm
周波数：27.120MHZ?
分解能：0.0066nm(160?458nm)?
?? 　??????? 0.013nm(458?850nm)		 ? ICPE-9000 島津製作所製??????
ﾏﾙﾁﾁｬﾝﾈﾙﾀｲﾌﾟ
波長範囲：167?800nm
検出器：CCD
定量下限：10ppb程度?
　　　　　　　(元素により異なる)
? ? ?
◆ICP質量分析計（ICP-MS）
?
ICPM-8500 島津製作所製
分析部：四重極型質量分析計
検出器：ﾁｬﾝﾈﾙﾄﾛﾝ検出器
質量数範囲：2?250
　　　　(C,N,O,F,Clなど一部対応不可)
質量安定度：±0.1a.m.u		 ? ?
? ? ?
◆高速液体クロマトグラフ分析装置（HPLC）
?
1100　Series ｱｼﾞﾚﾝﾄﾃｸﾉﾛｼﾞｰ製
設定流量範囲：0.2?10.0ml/min?
UV-Vis検出器：
波長範囲：190?600nm
示差屈折率検出器：
屈折率ﾚﾝｼﾞ：1.00?1.75RIU
ｶﾗﾑｺﾝﾊﾟｰﾄﾒﾝﾄ　
温度範囲：室温-10℃?80℃		 ? Alliance2695 waters製???
UV-Vis検出器
波長範囲：190?700μm??????
設定流量範囲：0.05?5.00ml/min
ｶﾗﾑｺﾝﾊﾟｰﾄﾒﾝﾄ
温度範囲：室温+5?60℃
? ? ?
◆フーリエ変換赤外分光光度計（FT-IR）
? ? ?
FT-IR-610 日本分光製
測定波数範囲： 7,800?350cm-1
分解能：0.5、1、2、4、8、16cm-1?
光学系：ｼﾝｸﾞﾙﾋﾞｰﾑ
光源：高輝度ｾﾗﾐｯｸ光源		 ? 〔顕微赤外付属装置〕
MICRO-20 日本分光製
測定波数範囲：5,000?650cm-1
分解能：0.5、1、2、4、8、16cm-1
測定方式：透過反射測定両用
最小測定ｻｲｽﾞ：Ø50μm
? ? ?
◆キャピラリー電気泳動装置（CE）
? ? ?
G1600A ｱｼﾞﾚﾝﾄﾃｸﾉﾛｼﾞｰ製
ﾊﾟﾜｰｻﾌﾟﾗｲ ： 電圧 0?±30kV、電流 0?300μA???
注入方式 ： 加圧法　圧力 0?50mbar?　　
　　　　　　?? 電気的移動法　電圧 0?±30kV
検出器 ： UV-Visﾀﾞｲｵｰﾄﾞｱﾚｲ検出器?　
　　　　　? 測定波長範囲 190?600nm?
ｷｬﾋﾟﾗﾘｰ設定温度範囲 ： 20?60℃		 ? ?
? ? ?
◆イオンクロマトグラフ装置（IC） ? ?
?
LC-20ADsp 島津製作所製
・陰ｲｵﾝ分析　?
検出法：電気伝導度検出器　ｻﾌﾟﾚｯｻ方式
セル容量：0.25μl　ｾﾙ定数：25cm-1　
使用ｶﾗﾑShim-Pack IC-SA2		 ? LC-10AD　島津製作所製
・陽ｲｵﾝ分析　
検出法：電気伝導度検出器　ﾉﾝｻﾌﾟﾚｯｻ方式
セル容量：0.25μl　ｾﾙ定数：25cm-1　
使用ｶﾗﾑShim-Pack IC-C4

◆原子吸光装置（AA）
?
Z-8200 日立製作所製??????
ﾌﾚｰﾑ原子吸光装置??????
原子化法：ﾌﾚｰﾑ式　※可燃性ｶﾞｽﾊﾞｰﾅｰ??????
測定方法：偏光ｾﾞｰﾏﾝ測光法??????
測定波長：190?900nm		 ? AA-6500S 島津製作所製??????
ﾌﾚｰﾑ・ﾌﾚｰﾑﾚｽ原子吸光装置??????
原子化法：ﾌﾚｰﾑ・ﾌﾚｰﾑﾚｽ式
（電気加熱・水素化物発生）
?測定波長：190?900nm
? ? ?
? ?
HG-200J 平沼産業製
還元気化原子原子吸光装置
原子化法：ﾌﾚｰﾑﾚｽ式
ﾌﾚｰﾑﾚｽ：還元気化
(Hg測定用)		 ? ?
? ? ?
◆塩素・硫黄分析装置・加熱発生ガス前処理装置
?
TOX-100 三菱化学ｱﾅﾘﾃｯｸ製
測定範囲：塩素0.1?50μg、硫黄0.05?50μg?
燃焼温度：800℃?1,100℃
POX-100（加湿器）付属??
Aｒ、O2、Airｶﾞｽ対応		 ? ?
? ? ?
◆カーボン分析装置
?
EMIA-110 HORIBA製
固体ｻﾝﾌﾟﾙ中の炭素量の測定用
定量下限：0.01wt％
方式：酸素気流中燃焼-赤外線方式
測定範囲：0.01?99.99wt％
再現性：CV=1.5%もしくは0.001wt％		 ? TOC-VCSN 島津製作所製???
水ｻﾝﾌﾟﾙ中の炭素量の測定用
測定範囲：TC 1?25,000mg/l
　　　 　　　　IC 1?3,000mg/l
方式：燃焼酸化-赤外線式
? ? ?
◆比表面積測定装置（BET）
? ? ?
FlowSorb　? 島津製作所製
吸着検出法 : 連続流動法
吸着ｶﾞｽ?: 窒素
比表面積測定範囲?: 約0.1m2/g以上
全比表面積測定範囲?: 0.1?280m2
ｾﾙ内容量?: 4.8m2		 ? ?
? ? ?
◆分光光度計
? ? ?
UV-2450　島津製作所製
測定方式：ﾀﾞｲﾚｸﾄﾚｼｵ方式?
測定波長範囲：190?900nm
測定レンジ：吸光度→-4?5Abs
?????????????透過率（反射率）→0?999.9%T（R）		 ? ?

◆デジタルマイクロスコープ
? ?
VH-7000　ｷｰｴﾝｽ製??????
ｶﾒﾗ撮像素子　1/2ｲﾝﾁ150万画素CCDｲﾒｰｼﾞｾﾝｻ
総画素：水平1,434×1,050
ﾚﾝｽﾞ：0.1?40倍、25?175倍、150?800倍
画像形式：JPEG、TIFF?光源：ﾊﾛｹﾞﾝﾗﾝﾌﾟ		 ? ?
? ? ?
◆凍結乾燥機　【前処理】
?
FDU-2200　東京理化器械製
冷却方式：缶体冷却方式
ﾄﾗｯﾌﾟ冷却温度：-90℃
ﾄﾗｯﾌﾟ解氷機能：ﾎｯﾄｶﾞｽによる解氷
除湿量：1L/回		 ? ?
? ? ?
◆加熱脱着装置（GC/MS用)　【前処理】
? ?
TDS2/CIS4　GERSTEL製
加熱温度：-50?350℃
加熱雰囲気：He(ﾍﾘｳﾑ)
加熱時間：0?650min
試料導入量：数mg		 ? ?
? ? ?
◆マイクロウェーブ分解装置（ICP分析用)　【前処理】
? ? ?
ETHOS1　ﾏｲﾙｽﾄｰﾝｾﾞﾈﾗﾙ製
最大出力　：　1,500W　、周波数　：　2,450MHz??
最大耐圧　：　55bar
最大温度　：　250℃
主な使用酸　：　塩酸、硝酸、過酸化水素、ふっ酸		 ? ?
? ? ?
◆ビートサンプラー（蛍光X線分析用試料作製装置XRF用)　【前処理】
? ? ?
TK-4200型　東京科学製
温度範囲：約300?1,300℃?		 ? ?
? ? ?
◆凍結粉砕機　【前処理】
?
ﾌﾘｰｻﾞｰﾐﾙ　SPEX社製?
粉砕方式：低温衝撃粉砕
粉砕装備：磁気コイルにスチールインパクターの駆動??
冷却液：液体窒素
粉砕容量：約1?3g(0.5?2.5ml)		 ? ?粉砕後の試料

◆微量高速冷却遠心機
? ?
MX-301 ﾄﾐｰ精工製??????
最大容量：50ml×4本
最大遠心加速度：21,130G?
設定温度：-9?35℃?
回転数：300?16,000rpm
時間：0?99分		 ? ?
? ? ?
◆ソックレー抽出装置
?
B-811型 柴田科学製
抽出機容量：180ml
溶剤容器容量：150ml
抽出方法：
?ｿｯｸｽﾚｰ抽出、?熱間抽出、?高温抽出、?連続抽出
ﾋｰﾀｰ加熱温度：上部?200℃、下部?400℃
抽出時間：0?99時間99分		 ? ?
? ? ?
◆レーザーラマン分光装置
? ?
XploRA堀場製作所製
測定範囲（ﾗﾏﾝｼﾌﾄ値）：9,000?100cm-1
焦点距離：200mm?
最高分解能：1.1cm-1（532nm、2,400gr/mm）
搭載ﾚｰｻﾞｰ：532nm（固体ﾚｰｻﾞｰ）
回析格子：600、1,200、1,800、2,400gr/mm
最高分解能：1μm
検出器：CCD検出器(200nm?1,050nm)
対物ﾚﾝｽﾞ：X10、X100		 ? ?
? ? ?
◆熱分解GC-MS
? ? ?
熱分解GC-MS フロンティアラボ製
分解温度範囲：50-800℃
分解環境雰囲気：He、Air
　　　　発生ｶﾞｽ(EGA)法
　　　　ｼｸﾞﾙｼｮｯﾄ法
　　　　ﾀﾞﾌﾞﾙｼｮｯﾄ法		 ? ?
? ? ?
◆pH・EC（電気伝導率）測定装置
? ? ?
MM-60R 東亜DKK製
[pH測定部]
測定方法：ｶﾞﾗｽ電極法
測定範囲：pH1.0?13.0　測定温度範囲：0?100℃
[EC測定部]???
測定方法：交流2電極法????
測定範囲：100μS/m?10S/m（1μS/cm?100mS/cm）　　測定温度範囲：0?100℃?		 ? ?
? ? ?
◆全窒素・全リン分析装置
?
SWAAT BLTEC製
分析方法：比色定量分析法
ﾓｼﾞｭｰﾙ：超音波ﾎﾓｼﾞﾅｲｻﾞｰ?
　　　　　　分解加熱槽
　　　　　　紫外線吸光光度法		 ? ?

◆フッ素・シアン・フェノール分析装置
? ?
SWAAT-FCW BLTEC製??????
分析方法(ﾌｯ素)：ﾗﾝﾀﾝ-ｱﾘｻﾞﾘﾝ･ｺﾝﾌﾟﾚｷﾘﾝ発色CFA法
分析方法(ｼｱﾝ)：4-ﾋﾟﾘｼﾞﾝｶﾙﾎﾞﾝ酸ﾋﾟﾗｿﾞﾛﾝ発色CFA法		 ? ?
? ? ?
◆自動滴定装置(カールフィッシャー水分計) ? ?
? ?
GT-06 三菱化学ｱﾅﾘﾃｯｸ製
測定法：電位差滴定法
検出範囲：-1,999?+1,999ml
ﾋﾞｭﾚｯﾄ分解能：0.002ml		 ? ?
? ? ?
◆色度・濁度測定装置 ? ?
? ? ?
water・Analyzer-2000 日本電色工業製?
ｾﾙｻｲｽﾞ：50mm
測定範囲：濁度0?20度
　　　　　　　色度0?30度
精度：ｶｵﾘﾝ濁度1.0mg/l　CV2.0%?
受光素子：高速ｼﾙｺﾝﾌｫﾄｾﾙ?		 ? ?

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